VF-5100量產用旋轉料台式直立式爐管

此大批量、擴散、LPCVD、直立式爐管可執行4到8英寸晶圓超高溫處理。
此系統可彈性配置，使您的生產線能處理多種產品。此爐擅長功率裝置製造。

特性

彈性的設備配置，適用於各種生產線
可選擇50至150片晶圓批量
可提供4至8英寸晶圓尺寸
4到8個盒式堆料器
使用LGO加熱器，實現從低溫到中高溫範圍的出色溫度控制
使用單/五晶圓搬運機器人進行高速晶圓轉移
配備易於操作的高效能控制系統

概要
規格
應用
自訂
支援
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概要

這款適用於4至8英寸晶圓的直立式爐管可彈性滿足您的生產線需求。您可以在50到150之間選擇要處理的晶圓數量。您可以從LGO加熱器、二矽化鉬 (MoSi2)加熱器和碳加熱器中選擇加熱器，因此該爐子不僅可用於低溫退火、氮化物 (Si3N4)、多晶矽 (poly Si)和其他材料的LPCVD、氧化和擴散加工，也可用於SiC功率裝置柵矽氧氮化、活化退火等超高溫加工。

規格

外部尺寸	W900×D1850×H2930 mm (100片晶圓) W1000×D1950×H3300 mm (150片晶圓)
加熱器	LGO加熱器
平面區長度	360至960 mm
晶圓尺寸	4至8英寸
批量大小	最高150片晶圓
I/O連接埠	1
盒式堆料器數量	4至8
指	5片晶圓 + 單晶圓
主機通訊	HSMS/GEM (選項)
選用件	強制冷卻系統氮氣負載鎖定薄晶圓處理可轉換的晶圓尺寸