RLA-3100-V接觸退火用燈管退火爐
可在真空 (LP) 環境/氮氣負載鎖定氣氛中進行活化和氧化。
支援各種晶圓，包括Si、GaN和SiC。
特性
- 最高工作溫度：1,200°C
- 支援最大8英寸的各種晶圓尺寸。
- 包括用於SiC和GaN晶圓的自動基座轉移功能。
- 鹵素燈安裝在上下交叉處。
- 6區控制可以輕鬆控制每個區的功率比。
- 工件溫度的非接觸式測量使用輻射溫度計進行，而且可以進行反饋控制。
概要
RLA-3100-V是一種燈退火系統，支援最大8英寸的晶圓尺寸。耐真空石英管可在清潔真空 (LP) 環境和氮氣負載鎖定氣氛中進行處理。RLA-3100-V亦支援GaN基板處理。
規格
| 工作溫度範圍 | 400至1,200°C |
|---|---|
| 升溫速率 | 最高200°C/秒 |
| 燈陣列 | 頂部/底部表面交叉陣列 |
| 支援的晶圓尺寸 | 高達8英寸 |
| 處理 | 退火、氧化 |
| 工件 | Si、SiC 晶圓、GaN、其他 |
應用
相關解決方案案例
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參閱解決方案案例
[case-004] 提高生產力 (全自動傳輸)
透過全自動傳輸提高生產力
- 接觸退火
- RLA-3000-V
