VF-5900 300mm晶圓大批量直立式爐管
此熱處理系統可執行矽晶圓、IGBT、聚酰亞胺和薄晶圓的氧化、擴散和CVD。作為我們的旗艦級機型，此爐配備了大容量儲料器，並且具有較短的循環時間。
特性
- 大批量，最多100片晶圓批量處理
- 最多16個FOUP儲料器
- 使用LGO加熱器，實現從低溫到中高溫範圍的出色溫度控制
- 使用單/五晶圓搬運機器人進行高速晶圓搬運
- 配備易於操作的高效能控制系統
概要
此大批量、量產型直立式擴散爐每批量最多可處理100片晶圓 (300mm/12英寸) 或16個FOUP。LGO加熱器用於從低溫到中高溫發揮卓越溫度特性。此爐除矽晶圓外，也適用於IGBT、聚酰亞胺、薄晶圓等材料的熱處理。
規格
| 外部尺寸 | W1250 × D3200 × H3450 mm |
|---|---|
| 加熱器 | LGO加熱器 |
| 平面區長度 | 1040 mm |
| 晶圓尺寸 | 300 mm |
| 批量大小 | 100片晶圓 |
| I/O連接埠 | 2 |
| FOUP儲料器數量 | 16 |
| 指 | 5片晶圓 + 單晶圓 |
| 主機通訊 | HSMS/GEM300 |
| 選用件 | 強制冷卻系統 氮氣負載鎖定 |
