VF-5700 300mm晶圓小批量直立式爐管
此熱處理系統執行矽晶圓、IGBT、聚酰亞胺和薄晶圓的氧化、擴散和CVD。由於此機型高度小於3000 mm，因此可以輕鬆導入。其特點是循環時間短，產量高。
特性
- 小批量，彈性的25至50片晶圓批量處理
- 使用具有快速加熱時間的大功率加熱器實現高處理量
- 配備易於操作的高效能控制系統
- 輕巧的尺寸，沒有堆料器
概要
此循環時間短、產量高的直立式擴散爐以小批量處理300mm (12英寸) 晶圓，每批25-50片晶圓。由於消除了堆料器空間，其高度小於3000 mm，易於導入。很多情況下，爐子都是在沒有堆料器的情況下導入的，因此您可以降低與堆料器相關的成本。由於有LGO加熱器，該爐子在從低溫到中高溫的廣泛範圍內表現出卓越的溫度特性。適用於除矽晶圓外的IGBT、聚酰亞胺、薄晶圓等材料的熱處理。
規格
| 外部 尺寸 |
W1250×D2000×H2850 mm |
|---|---|
| 加熱器 | 大功率LGO加熱器 |
| 平坦區 長度 |
500 mm |
| 晶圓尺寸 |
300 mm |
| 批量大小 | 50片晶圓 |
| FOUP開口器 | 2 |
| 指 | 5片晶圓 + 單晶圓 |
| 主機通訊 | HSMS/GEM300 (選項) |
| 選用件 | 強制冷卻系統 氮氣負載鎖定 平面區長度750 mm (批量75片晶圓) |
