最佳化設計

我們提供最適合客戶需求的熱處理設備。

「我希望能進行實驗性開發和小批量生產。而且我想更輕易轉移到大規模生產。」
「雖然我們可以安裝機器的區域有限,但我們希望安裝一台符合我們所需規格的機器。」
「由於新處理需要均勻的薄膜沉積分佈,我們希望能精確控制溫度和氣氛。」
「我擔心安全,因為要在特定的氣體環境中使用。」

這些是我們客戶的一些要求和疑慮。我們用我們累積的設計知識回答這些客戶的詢問,並根據我們廣泛的生產記錄提出最適合熱處理的設備。
請儘管與我們連絡。

自訂範例

直立式爐管範例

  • 支援變更氣箱配置
  • 支援在大氣壓力下使用液體來源進行處理
  • 支援硒化 (Se)/硫化 (S) 處理
  • 大口徑爐的真空支援 (G4尺寸以上)
  • 碳納米管生長設備
  • 支援薄晶圓 (80μm以上)
  • 支援扇出晶圓的設備
  • 大型 FPD聚酰亞胺固化面板的基板支援
  • 支援濕式真空加工
  • 支援乾式真空 (氧分壓控制) 處理
  • 支援使用ClF3 進行原位清洗
  • 支援處理石英盒的批量運輸
    [概要] 放入晶圓的石英盒在該狀態下依原樣傳送、堆疊並進行熱處理。
  • 支援扁平多晶矽 (無溫度傾斜)

* 支援因型號而異。

彈性的設備配置

可將附在爐子上的氣箱等移動到後側或地板下,而不是只能放在前側或後側。我們可針對設備區域的限制提出解決方案,改善設備的可維護性。

爐子 前側 氣箱 一樓

橫型爐管範例

  • 帶自動移動加熱器的快速冷卻機構
  • 帶自動開閉式加熱器的強製冷卻機構
  • 石英安瓿自動輸送注水冷卻機構
  • 使用懸臂加載器支持POCl3和BBr3擴散
  • 高速懸臂式裝載機 (支援氧氣施體殺手處理)

燈退火爐示例

  • 更換基座上的工件的機構
  • 同時處理多個晶圓
  • 支持從氧化到氧氮化的連續加工

烤箱示例

  • 支援φ8”和φ300mm晶圓

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