VF-1000少量生產用直立式爐管

這種用於實驗和研究 (研發) 的小型生產直立式爐管實現了高品質的加工。
此爐結構輕巧，安裝面積小，可用於寬範圍的晶圓直徑，並具有與量產爐相同的溫度特性。

特性

用於研發的高效能處理
小批量，最多25個晶圓批量處理
提供2至8英寸和300mm晶圓尺寸
配備LGO加熱器，可達到與量產設備相同的高溫效能
配備功能有限的簡易控制系統

概要
規格
應用
自訂
支援
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概要

此用於實驗、研究 (研發)和小型生產的直立式爐管可用於從2英寸到8英寸以及最大300mm的各種晶圓尺寸，小批量的尺寸也可以到最多25個晶圓。加熱器可以從 LGO加熱器和其他各種加熱器中選擇，因此可以在與量產爐相同的爐口結構和加熱器效能的情況下進行製程開發。此爐可用於各種矽晶圓處理 (LPCVD、氧化和擴散) 、用於功率裝置 (Si和SiC) 開發的矽柵氧氮化和活化退火，以及廣泛的其他製程。

規格

外部尺寸	W1500×D1000×H2130 mm
加熱器	LGO加熱器
平面區長度	至 250 mm
晶圓尺寸	至8英寸
批量大小	至25片晶圓
選用件	強制冷卻系統氮氣負載鎖定 50到150個晶圓的加工 300mm晶圓處理