RLA-3100 φ200mm對應RTP設備
此系統適用於4到8英寸晶圓，在真空 (LP) 環境和氮氣負載鎖定氣氛中進行活化和氧化。上下十字燈 (鹵素燈)和均熱系統用於更高的面內溫度分佈均勻性。
特性
- 上下十字燈結構和均熱裝置提高了面內溫度的均勻性
- 可提供4至8英寸晶圓尺寸
- 多軸清潔機器人實現高速準確的晶圓轉移
- 最多可連續加工50片晶圓
- 配備易於操作的高效能控制系統
- 真空設計的石英管可在真空壓力下實現精確的氣體置換和製程
概要
此燈管退火爐可透過以200°C/秒的高速加熱處理最多50片晶圓 (4英寸至8英寸)。上下交叉鹵素燈實現優異的平面內溫度分佈均勻。由於採用耐真空設計的石英管，晶圓可以在清潔真空 (LP) 環境和氮氣負載鎖定氣氛中進行處理。
規格
| 外形尺寸 (mm) | W900×D1850×H2580 mm |
|---|---|
| 工作溫度 | 400至1200°C |
| 升溫速率 | 最高200°C/秒 |
| 燈具佈局 | 上下十字燈陣列 |
| 控制區數量 | 6 |
| 晶圓尺寸 | 4至8英寸 |
| I/O連接埠 | 2 |
| 晶圓轉移 | 單晶圓/多軸清潔機器人 |
| 選用件 | 真空系統 主機通信 (HSMS/GEM) 氮氣負載鎖定 |
