VF-5300H柵極絕緣膜形成用直立式爐管
可進行高溫處理的直立式爐管，是功率裝置製造的理想選擇。支援氧氮化和最大尺寸8英寸的晶圓。具有自動晶圓傳輸機制，並可用於量產。
特性
- 支援最多75片晶圓 (200mm/8英寸) 或最多100片晶圓 (150mm/6英寸)， 並使用於量產生產線。
- 支援最大8英寸的各種晶圓尺寸。
- 可在晶圓附近進行溫度監控。
- 爐內採用我們專利的無金屬結構。
- 支援不同氧化/氧氮化製程 (濕/乾氧化、H2退火、NH3 氮化、NO/N2O 氧氮化) 的串行處理。
- 腔室清潔機構 (選項)
概要
VF-5300H是一款直立式爐管，每批量最多可處理100片晶圓，以及從3到8英寸的各種晶圓尺寸。精心挑選的硬體和控制系統功能，支援用於批量生產線。爐內採用我們專利的無金屬結構。VF-5300H可進行高溫處理，是功率裝置製造的理想選擇。也可以進行氧氮化。
規格
| 工作溫度範圍 | 700至1,400°C |
|---|---|
| 支援的晶圓尺寸 | 3至8英寸 |
| 最大批號數 | 75片晶圓 (200mm)、100片晶圓 (150mm) |
| 使用的氣體 | N2、Ar、H2、NO、N2O、NH3 |
| 選用件 | 氮氣 負載鎖定，腔室清潔機構 |
| 應用 | SiC功率裝置、氧氮化、氮化、氧化、量產 |
