VF-3000H柵極絕緣膜形成用直立式爐管
可進行高溫處理的直立式爐管，是功率裝置製造的理想選擇。支援氧氮化和最大尺寸8英寸的晶圓。具有自動晶圓傳輸機制，可用於從研發到批量生產的應用。
特性
- 支援從小批量到50片晶圓的批量，以及從研發到批量生產線的應用。
- 支援最大8英寸的各種晶圓尺寸。
- 可在晶圓附近進行溫度監控。
- 爐內採用我們專利的無金屬結構。
- 支援不同氧化/氧氮化製程 (濕/乾氧化、H2退火、NH3 氮化、NO/N2O 氧氮化) 的串行處理。
- 腔室清潔機構 (選項)
概要
VF-3000H是一款直立式爐，可以處理從小批量到50片晶圓的批次，以及從3到8英寸的各種晶圓尺寸。精心挑選的硬體和控制系統功能，支援從研發到批量生產線的各種應用。爐內採用我們專利的無金屬結構。VF-3000H可進行高溫處理，是功率裝置製造的理想選擇。也可以進行氧氮化。
規格
| 工作溫度範圍 | 700至1,400°C |
|---|---|
| 支援的晶圓尺寸 | 3至8英寸 |
| 最大批號數 | 50片晶圓 |
| 使用的氣體 | N2、Ar、H2、NO、N2O、NH3 |
| 選用件 | 氮氣、負載鎖定、腔室清潔機構 |
| 應用 | SiC功率裝置、氧氮化、氮化、氧化、研發、量產 |
應用
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