VF-5300量產用存儲式直立式爐管

此帶有內置堆料器的直立式爐管可在超高溫下大批量處理8英寸晶圓。
此爐是可以進行氧化、擴散、LPCVD、活化退火等各種熱處理的半導體熱處理系統。

特性

大批量，最多150片晶圓批量處理
最多20個盒式堆料器
使用LGO加熱器，實現從低溫到中高溫範圍的出色溫度控制
使用單/五晶圓搬運機器人進行高速晶圓搬運
配備易於操作的高效能控制系統

概要
規格
應用
自訂
支援
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概要

此型號為連續大批量、量產型直立式擴散爐，配備最多可容納150片晶圓 (8英寸)或20個盒子的堆料器。由於有LGO加熱器，該爐子在從低溫到超高溫的範圍內都表現出出色的溫度特性。此爐可用於從低溫退火、氮化物 (Si3N4)、多晶矽 (poly Si) 等材料的LPCVD到氧化和擴散的廣泛加工。二矽化鉬 (MoSi2)加熱器也可用於支援SiC功率裝置柵氧氮化和其他超高溫處理。

規格

外部尺寸	W900×D2300×H3300 mm
加熱器	LGO加熱器
平面區長度	960 mm
晶圓尺寸	6至8英寸
批量大小	150片晶圓
I/O連接埠	2
盒式堆料器數量	20 (標準)
指	5片晶圓 + 單晶圓
主機通訊	HSMS/GEM (選項)
選用件	強制冷卻系統氮氣負載鎖定薄晶圓處理 SMIF操作