單片搬送式IR烤箱

該烤箱是使用IR加熱系統的單基材轉移型潔淨烤箱。
可以對直至第10代的大尺寸液晶 (LCD)和有機EL (OLED) 進行各種熱處理。
亦提供在500°C下處理IGZO和LTPS (低溫多晶矽) 的產品試作模型。

特性

概要

不產生灰塵的清潔結構與精確的烤箱氣氛控制 (已獲得專利) 相結合，可提供高等級的清潔效能。

這些烤箱也能處理需要嚴格清潔環境的陣列基板。

採用加熱效率高的遠紅外線 (IR)加熱系統，可高效處理所有薄膜厚度。

非常適合處理厚膜，例如取向層和鈍化膜。

採用的IR面板加熱器可提供出色的溫度均勻性。即使是第10代等大尺寸基板，也能均勻加熱。

可將氮氣注入烤箱中，在低氧濃度下進行熱處理。