VF-5100 旋转料台式立式炉管

这款大批量、扩散、LPCVD、立式炉管可对 4 至 8 英寸的晶圆进行超高温处理。
该系统可以灵活配置，使您的生产线能够处理各种产品。该立式炉管擅长功率器件制造。

特性

灵活的设备配置适用于各种生产线
可以选择 50 至 150 片一体式批量大小
提供 4 至 8 英寸晶圆尺寸
4 至 8 个晶盒储料器
使用 LGO 加热器，从低温到中高温都能实现出色的温度控制
使用单片／５片一体式机械手臂实现晶圆高速传送
配备易于操作的高性能控制系统

概述
规格
应用
定制
支持
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概述

这款适用于 4 至 8 英寸晶圆的立式炉管可以灵活地满足生产线需求。可选择处理晶圆的数量从 50 到 150 不等。您可以从 LGO 加热器、二硅化钼 (MoSi2) 加热器和碳加热器中选择加热器，这样该立式炉管不仅可用于低温退火、氮化物 (Si3N4)、多晶硅和其他材料 LPCVD、氧化和扩散处理，还可用于 SiC 功率器件栅硅氧氮化、活化退火和其他超高温处理。

规格

外部尺寸	W900 × D1850 × H2930 mm（100 片一体式） W1000 × D1950 × H3300 mm（150 片一体式）
加热器	LGO 加热器
均热区长度	360 至 960 mm
晶圆大小	4 至 8 英寸
批量大小	最高150 片一体式
I/O 端口	1
晶盒储料器数量	4 至 8
手指	5 片一体式 + 单片式
HOST 通信	HSMS/GEM（可选）
选配	强制冷却系统 N₂ 置换室薄晶圆处理可转换晶圆大小