VF-5300H 栅极绝缘膜形成用立式炉管
可进行高温处理的立式炉管，非常适合功率器件制造。支持氧氮化和最大 8 英寸的晶圆。具有自动晶圆传输机制，可用于量产。
特性
- 最多可支持 75 片一体式（200 毫米/8 英寸）或 100 片一体式（150 毫米/6 英寸），可用于量产生产线。
- 支持多种晶圆大小，最高可达 8 英寸。
- 可在晶圆附近进行温度监控。
- 炉内采用我们专有的无金属结构。
- 支持不同氧化/氧氮化工艺的串行处理（湿/干氧化、H2 退火、NH3 氮化、NO/N2O 氧氮化）。
- 腔室清洁机制（可选）
概述
VF-5300H 立式炉管每批最多可以处理 100 片一体式，晶圆大小从 3 英寸到 8 英寸不等。精心挑选的硬件和控制系统功能可用于量产生产线。炉内采用我们专有的无金属结构。VF-5300H 可进行高温处理，非常适合功率器件制造。还可以进行氧氮化。
规格
| 工作温度范围 | 700 至 1,400°C |
|---|---|
| 支持的晶圆大小 | 3 至 8 英寸 |
| 最大批量 | 75 片一体式（200 mm）、100 片一体式（150 mm） |
| 使用气体 | N2、Ar、H2、NO、N2O、NH3 |
| 选配 | N2 置换室、腔室清洁机制 |
| 应用 | SiC 功率器件、氧氮化、氮化、氧化、量产 |
