VF-5700 300mm晶圆小批量立式炉管
该热处理系统可进行硅晶片、IGBT、聚酰亚胺和薄晶圆氧化、扩散和化学气相沉积。由于该型号高度小于 3000 毫米，因此很容易引入采用。不仅周期短，而且吞吐量高。
特性
- 小批量，可灵活进行 25 至 50 片一体式的批量加工
- 使用高功率加热器，加热快，吞吐量高
- 配备易于操作的高性能控制系统
- 体积小，无储料器
概述
这款处理周期短、吞吐量高的立式扩散炉以每批 25–50 片一体式的小批量处理 300 毫米（12 英寸）的晶圆。由于省去了储料器空间，其高度小于 3000 毫米，因此很容易引入采用。在很多情况下，引入的炉管没有储料器，因此可以削减储料器相关成本。凭借 LGO 加热器，炉管在低温到中高温范围内具有出色的温度特性。它适用于 IGBT、聚酰亚胺、薄晶圆和除硅晶片以外的其他材料的热处理。
规格
| 外部 尺寸 |
W1250 × D2000 × H2850 mm |
|---|---|
| 加热器 | 高功率 LGO 加热器 |
| 均热区 长度 |
500 mm |
| 晶圆大小 |
300 mm |
| 批量大小 | 50 片一体式 |
| FOUP 开启器 | 2 |
| 手指 | 5 片一体式 + 单片式 |
| HOST 通信 | HSMS/GEM300（可选） |
| 选配 | 强制冷却系统 N2 置换室 均热区长度：750 mm （批量大小：75 片一体式） |
