VF-5300 存储式量产立式炉管

这款内置储料器的立式炉管可以在超高温下大批量处理 8 英寸晶圆。
该立式炉管是一种半导体热处理系统，可进行氧化、扩散、LPCVD、活化退火和各种其他热处理。

特性

大批量，最多可处理 150 片晶圆
最多 20 个晶盒储料器
使用 LGO 加热器，从低温到中高温都能实现出色的温度控制
使用单片／５片一体式机械手臂实现晶圆高速传送
配备易于操作的高性能控制系统

概述
规格
应用
定制
支持
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概述

该型号为连续大批量量产型立式扩散炉，配有最多可储存 150 片一体式（8 英寸）或 20 片一体式盒的储料器。凭借 LGO 加热器，炉管在低温到超高温范围内具有出色的温度特性。该炉管可用于从低温退火、氮化物 (Si3N4)、多晶硅和其他材料 LPCVD 到氧化和扩散的各种处理。二硅化钼 (MoSi2) 加热器也可用于支持 SiC 功率器件栅氧氮化和其他超高温处理。

规格

外部尺寸	W900 × D2300 × H3300 mm
加热器	LGO 加热器
均热区长度	960 mm
晶圆大小	6 至 8 英寸
批量大小	150 片一体式
I/O 端口	2
晶盒储料器数量	20（标准）
手指	5 片一体式 + 单片式
HOST 通信	HSMS/GEM（可选）
选配	强制冷却系统 N₂ 置换室薄晶圆处理 SMIF 操作