VFS-4000 大口径立式炉管
这款适用于 4.5G/5.5G 的大口径立式炉管利用半导体制造设备技术开发，可用于玻璃基板制造。
该立式炉管适用于低密度有机 EL (OLED/AMOLED) 熔块密封工艺和脱水。
特性
- 该半导体扩散炉已被改造成更大规模，可用于平板显示器
- 可进行常压处理和减压处理
- 各种气体氛围（氧化、还原、中性、腐蚀等）
- 最大基板尺寸：1300 × 1500 mm
- 大型 LGO 加热器具有出色的温度特性
概述
该大口径立式炉管采用严格的温度特性控制、气氛控制和粒子控制，专用于半导体制造和 FPD。石英舟用于创建低粒子、无金属的环境，以便在 10 ppm 或更低的 O2 浓度下进行真空热处理。该炉管适用于触摸屏及其他材料的接触退火、后烘烤和活化退火。
规格
| 外部尺寸 | 2000(W) × 2000(D) × 4350(H)（炉身） |
|---|---|
| 加热器 | LGO 加热器 |
| 工作温度 | 200 至 600°C |
| 基板尺寸 | 1300×1500 |
| 批量大小 | 20 至 25 片一体式 |
| 均热区温度 | 不到 ±3°C |
| 腔室材料 | 高级石英 |
| 控制器 | VSC1000 型 |
| 选配 | 强制冷却系统、HOST 通信 (SECS/GEM) |
| 应用 | 接触退火、后烘烤、活化退火 |
| 制成品 | 4.5·5.5 尺寸玻璃板 |
应用
定制
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