RLA-1200 快速热处理灯退火系统
这款用于 4 英寸至 8 英寸晶圆的灯光退火炉在研发中使用也能实现高质量处理。活化和氧化可以在真空 (LP) 环境和 N2 置换室气氛中进行。
特性
- 用于研发的高性能处理
- 通过手动基座转移的低成本系统
- 上下交叉灯结构和均热炉提高了平面内温度的均匀性
- 提供 4 至 8 英寸晶圆尺寸
- 配备易于操作的高性能控制系统
- 采用真空设计的石英管能够在真空压力下进行精确的气体置换和加工处理
概述
这款用于研发 4 英寸至 8 英寸晶圆的灯光退火炉能够进行 200°C/秒高速加热和手动基座转移，可节省加工成本。使用上下交叉卤素灯的结构实现了出色的平面内温度均匀性，可进行低成本、高质量处理。由于石英管具有耐真空特性，因此可在清洁真空 (LP) 环境和 N2 置换室气氛中进行加工处理。
规格
| 外部尺寸 | W1300 × D1300 × H1850 mm |
|---|---|
| 工作温度 | 400 至 1200°C |
| 加热速率 | 最高200°C/秒 |
| 灯布局 | 上下交叉灯阵列 |
| 控制区数量 | 6 |
| 晶圆大小 | 4 至 8 英寸 |
| 晶圆传输 | 手动 |
| 选配 | 真空系统 洁净工作台 |
