RLA-3100 快速热处理灯退火系统
该系统适用于 4 至 8 英寸晶圆，可以在真空 (LP) 环境和 N2 置换室气氛中进行活化和氧化。上下交叉灯（卤素灯）和均热系统用于实现更高的平面内温度分布均匀性。
特性
- 上下交叉灯结构和均热装置提高了平面内温度的均匀性
- 提供 4 至 8 英寸晶圆尺寸
- 多轴清洁机器人可进行高速、准确的晶圆传输
- 最多可连续加工 50 片一体式
- 配备易于操作的高性能控制系统
- 采用真空设计的石英管能够在真空压力下进行精确的气体置换和加工处理
概述
该灯光退火炉可通过 200°C/秒的高速加热处理最多 50 片一体式（4 英寸至 8 英寸）。上下交叉卤素灯实现了出色的均匀平面内温度分布。由于石英管具有耐真空特性，因此可在清洁真空 (LP) 环境和 N2 置换室气氛中加工晶圆。
规格
| 外部尺寸 (mm) | W900 × D1850 × H2580 mm |
|---|---|
| 工作温度 | 400 至 1200°C |
| 加热速率 | 最高200°C/秒 |
| 灯布局 | 上下交叉灯阵列 |
| 控制区数量 | 6 |
| 晶圆大小 | 4 至 8 英寸 |
| I/O 端口 | 2 |
| 晶圆传输 | 单片式/多轴清洁机器人 |
| 选配 | 真空系统 HOST 通信 (HSMS/GEM) N2 置换室 |
