RLA-4106-V 接触退火用灯光退火炉
真空置换室能力提高了吞吐量。
支持 Si、GaN 和 SiC 等各种晶圆。
支持 Si、GaN 和 SiC 等各种晶圆。
特性
- 真空置换室是腔室和运输装置的标配，以实现高吞吐量。
- 包括 SiC 和 GaN 晶圆的自动基座转移功能。
- 卤素灯上下交叉安装。
- 6 区控制可以轻松控制每个区域的功率比。
- 工件温度的非接触测量使用辐射温度计进行，并可进行反馈控制。
概述
该生产设备使用上下交叉排列的多个卤素灯作为热源，用于晶圆的快速、高精度退火。使用新开发的真空传送平台可以在超低氧气氛中传送和处理工件。
规格
| 工作温度范围 | 400 至 1200°C |
|---|---|
| 温升率 | 最高200°C/秒 |
| 灯阵列 | 上/下表面交叉阵列 |
| 控制区数量 | 6 |
| 晶圆大小 (mm) | 也可以处理 Φ150 * Φ200 mm 大小。 |
| 晶圆传输 | 真空清洁机器人 |
| 处理 | 退火、氧化 |
| 工件 | Si、SiC 晶圆、GaN、其他 |
