少量生产用立式炉管

这款用于实验和研发的小规模生产立式炉管实现了高质量的处理。
该立式炉管很紧凑，只需要很小的安装面积，但可用于各种直径的晶圆，具有与量产炉相同的温度特性。

特性

小批量，最多 25 片一体式进行批量加工
提供 2 至 8 英寸和 300 毫米晶圆尺寸

概述
规格
应用
定制
支持
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概述

这款用于实验、研发和小规模生产的立式炉管可用于从 2 英寸至 8 英寸以及最高 300 毫米的各种晶圆尺寸，小批量炉管的尺寸也可从多达 25 片一体式中进行选择。由于加热器可以从我们专有的Light Gauge Over-bend Heater和各种其他加热器中进行选择，因此工艺开发具有与量产炉管相同的炉口结构和加热器性能。该立式炉管可用于各种硅晶片处理（LPCVD、氧化和扩散）、针对功率器件（Si 和 SiC）开发的硅栅氧氮化和活化退火，以及各种其他工艺。

规格

型号	VF-1000
外部尺寸	W1500 × D1000 × H2130 mm (2 至 8 英寸) W1800 × D1400 × H2300 mm (φ300 mm)
均热区长度	至 250 mm
晶圆大小	2 至 8 英寸和 300 mm
批量大小	至 25 片一体式