接触退火用灯光退火炉（N2 置换室搬送）
在真空 (LP) 环境/N2 置换室气氛中进行活化和氧化。
支持 Si、GaN 和 SiC 等各种晶圆。
特性
- 最高工作温度：1200°C
- 支持多种晶圆大小，最高可达 8 英寸。
- 包括 SiC 和 GaN 晶圆的自动基座转移功能。
- 卤素灯上下交叉安装。
- 6 区控制可以轻松控制每个区域的功率比。
- 工件温度的非接触测量使用辐射温度计进行，并可进行反馈控制。
概述
这款是一个灯光退火炉，支持高达 8 英寸的晶圆大小。耐真空石英管可在清洁真空 (LP) 环境和 N2 置换室气氛中进行处理。该灯光退火炉还可以进行 GaN 基板处理。
规格
| 型号 | RLA-3100-V |
|---|---|
| 工作温度 | 400 至 1200°C |
| 升温速率 | 最高200°C/秒 |
| 灯布局 | 上下交叉灯阵列 |
| 晶圆大小 | 高达 8 英寸 |
| 处理 | 退火、氧化 |
应用
定制
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