单片式 IR 烘箱

该烘箱是采用 IR 加热系统的单片式洁净烘箱。
它可以对一直到第 10 代的大尺寸液晶 (LCD) 和有机 EL (OLED) 进行各种热处理。
还提供在 500°C 温度下处理 IGZO 和 LTPS（低温多晶硅）的产品试制型号。

特性

概述

不会产生灰尘的清洁结构，结合精密烘箱气氛控制技术（已获得专利），可提供高水平的清洁性能。

这些烘箱还能够处理需要严格清洁环境的阵列基板。

采用了具有出色加热效率的远红外 (IR) 加热系统，能够高效处理所有薄膜厚度。

适合处理厚膜，如对准层和钝化膜。

采用的 IR 面板加热器带来出色的温度均匀性。即使是第 10 代这样的大尺寸基板，也能实现均匀加热。

氮气可以注入烘箱，在低氧浓度下进行热处理。