這種配備自動輸送機的低價直立式爐管可用於從研發到批量生產4至8英寸晶圓的一系列功能。
超高溫處理是可用的，最適合功率裝置製造。
這種用於實驗和研究 (研發) 的小型生產直立式爐管實現了高品質的加工。
此爐結構輕巧，安裝面積小，可用於寬範圍的晶圓直徑，並具有與量產爐相同的溫度特性。
這些具有自動基板傳送功能的量產潔淨烤箱，除了在FO-WLP、WL-CSP的PIQ製程有豐富的實績之外,也可以用於先進封裝用的各種方形基板(~600x600mm)。還可以用於聚醯亞胺固化等低溫製程。
透過耐熱的高效能過濾器和獨特的冷卻裝置，可以在清潔的環境中進行高溫烘烤。熱風循環系統用於高精度地進行晶圓和玻璃基板的烘烤/老化、聚酰亞胺固化和退火。
大直徑垂直爐，適用於製造先進半導體封裝的RDL(再配線)和玻璃中介層、液晶、OLED(有機發光二極體)和聚醯亞胺薄膜。
可進行高溫處理的直立式爐管，是功率裝置製造的理想選擇。具有自動晶圓傳輸機制，並可用於量產。
可進行超高溫處理的直立式爐管，是功率裝置製造的理想選擇。支援3至8英寸晶圓，並具有自動晶圓傳輸機制。
可進行高溫處理的直立式爐管，是功率裝置製造的理想選擇。具有自動晶圓傳輸機制，可用於從研發到批量生產的應用。
